極紫外光刻機(jī)新款正在研發(fā) 光刻機(jī)方面的因素迫在眉睫

2020-10-19 16:24:20

近期的科技市場中誕生了三則新的消息,分別是極紫外光刻機(jī)新款正在研發(fā),李在镕親赴ASML,華為再出手。首先來說一下光刻機(jī)新款的消息,要知道的是,極紫外光刻機(jī)是7nm和5nm芯片制程工藝所必不可少的設(shè)備,目前全球只有阿斯麥能供應(yīng),可見其實力有多么強大。而目前在售的兩款極紫外光刻機(jī)都來自于阿斯麥,直到最近一段時間,據(jù)國外媒體報道,已經(jīng)推出了兩款極紫外光刻機(jī)的阿斯麥,正在研發(fā)第三款,計劃在明年年中開始出貨??磥戆⑺果湹膶嵙τ忠鲞M(jìn)一步,在接下來的科技市場中,發(fā)展實力也會變得越來越強。最關(guān)鍵的是,臺積電、三星這兩大芯片代工商的制程工藝都要依靠阿斯麥。

然后就是關(guān)于三星的消息,據(jù)韓媒報道,三星電子副董事長李在镕在本周三(10月14日)親自飛赴ASML(阿斯麥)荷蘭總部會晤,并與ASML進(jìn)行談判,以進(jìn)一步推進(jìn)與ASML的業(yè)務(wù)關(guān)系,以拿下更多的EUV光刻機(jī)。由此可見,三星想購入大量的EUV光刻機(jī),改變良品率的同時,也是為了提高產(chǎn)能,從而與臺積電更好的競爭,甚至超越臺積電。剛剛也說了,阿斯麥掌控著光刻機(jī),采用ASML的EUV光刻機(jī)可以實現(xiàn)芯片更高的良品率。此外三星之前明確宣布,將會投資100億美元加速在3nm等先進(jìn)制程工藝方面實現(xiàn)突破,看來光刻機(jī)方面的因素迫在眉睫。

最后就是華為再次出手的消息,也就是針對5G方面出手的消息,要知道早在2011年的時候,華為就成立了網(wǎng)絡(luò)能源產(chǎn)品線,主要業(yè)務(wù)是降低網(wǎng)絡(luò)基站的能源消耗,從而減少運營商的成本。但是5G網(wǎng)絡(luò)的成本本來就比4G高出很多,導(dǎo)致5G網(wǎng)絡(luò)資費增高,這種情況下,華為出手了,華為將這條產(chǎn)品線改名為了數(shù)字能源,利用數(shù)字化的技術(shù)來解決相應(yīng)的能源問題,而現(xiàn)在它的目標(biāo)就是改善5G基站的嚴(yán)重耗電情況。雖然還不知道能夠在多長的時間內(nèi)改善這種情況,但是在華為的努力下,5G基站的能源問題應(yīng)該很快就會被解決,這點也是期待值非常高的地方。

標(biāo)簽: 極紫外光刻機(jī)

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